Sökning: onr:22115915 > Growth of Hard Amor...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Growth of Hard Amorphous Ti-Al-Si-N Thin Films by Cathodic Arc Evaporation [Elektronisk resurs]
- Fager, Hanna (författare)
- Andersson, J. M. (författare)
- Johansson, Mats (författare)
- Odén, Magnus (författare)
- Hultman, Lars (författare)
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn) -
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn) - Alternativt namn: IFM
- Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
- Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
-
- Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
-
- Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
- Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
- Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
- Alternativt namn: LiTH
- Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
- Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn) -
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn) - Alternativt namn: IFM
- Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
- Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
- 2013
- Engelska.
- Ingår i: Surface & Coatings Technology. - 0257-8972. ; 235:25, 376-385
- E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning
Ämnesord
Inställningar
Hjälp
Stäng
- Ti (1−x−y) Al x Si y N z (0.02≤x≤0.46, 0.02≤y≤0.28, and 1.08≤z≤1.29) thin films were grown on cemented carbide substrates in an industrial scale cathodic arc evaporation system using Ti-Al-Si compound cathodes in a N 2 atmosphere. The microstructure of the as-deposited films changes from nanocrystalline to amorphous by addition of Al and Si to TiN. Upon incorporation of 12 at% Si and 18 at% Al, the films assume an x-ray amorphous state. Post-deposition anneals show that the films are thermally stable up to 900 ◦C. The films exhibit age hardening up to 1000 ◦C with an increase in hardness from 21.9 GPa for as-deposited films to 31.6 GPa at 1000 ◦C. At 1100 ◦C severe out-diffusion of Co and W from the substrate occur, and the films recrystallize into c-TiN and w-AlN.
Ämnesord
- Natural Sciences (hsv)
- Naturvetenskap (hsv)
Beståndsinformation saknas
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Sök vidare
Hjälp
- Fler titlar av
- Fager, Hanna
- Andersson, J. M.
- Johansson, Mats
- Odén, Magnus
- Hultman, Lars
- Linköpings universit ...
- visa fler...
- Linköpings universit ...
- visa färre...
- Fler titlar om
- Natural Sciences
- Naturvetenskap
- Värdpublikation
- Surface & Coatings T ...
- Fler artiklar
Sök utanför LIBRIS
Hjälp
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
- LibraryThing
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
